近日宣布，Cadence数字和定制/模拟设计流程已通过台积电(TSMC)N3E和N2先进工艺的设计规则手册(DRM)认证。两家公司还发布了相应的N3E和N2制程...
近日宣布，Cadence 数字和定制/模拟设计流程已通过台积电(TSMC)N3E 和 N2 先进工艺的设计规则手册(DRM)认证。两家公司还发布了相应的 N3E 和 N2 制程设计套件(PDK)，以加快在上述节点的移动、人工智能和超大规模计算的 IC 设计创新。客户已开始积极使用这些新的工艺节点和经过认证的 Cadence? 流程来实现功率、性能和面积(PPA)目标，简化模拟迁移过程，并缩短上市时间。
Cadence 和 TSMC 紧密合作，确保其完整的 RTL-to-GDS 流程符合 TSMC 的 N3E 和 N2 节点要求，其中包括Innovus?Implementation System、Quantus?Extraction Solution 和 Quantus Field Solver、Tempus?Timing Signoff Solution 和 ECO Option、Pegasus?Verification System、Liberate?Characterization Portfolio、Voltus?IC Power Integrity Solution 以及 Voltus-Fi Custom Power Integrity Solution。Genus?Synthesis Solution结合预测性质的 iSpatial 技术也支持最新的 N3E 和 N2 技术。
完整的 Cadence 数字实现和签核流程支持一系列新的设计特征，包括为了在 N3E 节点上实现最佳 PPA 结果，从综合到签核工程变更命令都可以使用原生的混合单元行优化技术；以及对单元引脚对齐和连接的支持。该流程可供客户快速采用，以便他们体验最新的 TSMC N3E 和 N2 工艺技术所带来的优势。
Cadence Virtuoso?Studio，包括 Virtuoso Schematic Editor、Virtuoso ADE Suite 和 Virtuoso Layout Suite，以及 Spectre?Simulation Platform，包括 Spectre X Simulator、Spectre Accelerated Parallel Simulator 、Spectre eXtensive Partitioning Simulator (XPS) 和 Spectre RF Option，这些产品在管理工艺角仿真、统计分析、设计中心化和电路优化上均做了改进。最新的 Virtuoso ADE Suite 架构能够在现代计算集群或公有云/私有云中并行运行多达数千个仿真点，从而帮助用户优化设计。
Virtuoso Layout Suite 包含多项创新，旨在提供更高效的 IC layout，以提供更好的性能和扩展性；基于网格的结构化器件摆放方法，在布局、布线、填充和 dummy 的插入上具有互动式的助理功能；一个新的器件级自动布线工具，旨在解决先进制程节点上的挑战；在 TSMC 先进制程节点上跨节点移植定制设计和 layout，具有增强的模拟迁移和 layout 重用功能；集成的寄生参数提取和 EM-IR 检查；以及结合 Pegasus Verification Solution，进行集成式签核级别的物理验证能力。